這些參數維持了高精密光學鍍膜機的性能

　　高精密光學鍍膜機采用e型電子槍蒸發源，可以蒸發各種高熔點金屬和氧化物，并可以在玻璃，塑料和陶瓷基材上涂覆各種多層薄膜，例如：紅外薄膜，寬帶減反射膜，光譜膜，冷光膜，IR-CUT膜，干式濾光片，偏光膜，電氣膜，適用于眼鏡，光學鏡片，精密光學部件，激光和電子行業的大規模工業生產。

　　1、電子槍輸出功率穩定，特殊的結構設計有效地防止了二次電子的產生和電子槍的點火。

　　2、旋轉采用磁性流體引入，長期運行可靠，密封可靠。

　　3、工件旋轉座采用多重水冷和重力引導設計，運行穩定可靠，徑向和軸向跳動為3-5mm。

　　4、它采用PLC+觸摸屏控制，多個泵閥，水電聯鎖相互保護，并且可以在包括真空系統，烘烤系統和整個蒸發涂層過程在內的整個過程中進行自動控制。

　　5、該裝置采用全四極質譜監測和氦質譜檢漏，真空密封性好，設備技術穩定可靠。

　　6、所有零部件均可靠，穩定，可連續24小時連續長期運行。
 

　　高精密光學鍍膜機的基本參數：

　　1、垂直前門結構，不銹鋼真空室Φ1300X1500mm

　　2、極限真空度：1×10-4Pa（空載清潔真空系統，300°烘烤后方）。

　　3、真空恢復時間：大氣壓至4×10-3Pa≤15min。

　　4、高抽速主泵，兩個KT-630擴散泵（18000L/s），配備了防湍流裝置。

　　5、工件旋轉：磁性流體密封旋轉裝置，旋轉座多重水冷和重力引導設計，運行穩定可靠。

　　6、工件烘烤：在機筒上烘烤，三點溫度控制，烘烤溫度為350°。

　　7、永磁E型電子槍，槍功率10KW/件；可配置單槍或雙槍，多腔坩堝和環形坩堝。

　　8、配備石英晶體膜厚控制器。

　　9、10英寸觸摸屏和歐姆龍（PLC）編程控制器，用于控制設備的真空系統，蒸發源系統，烘烤系統，工件旋轉系統，膜厚系統等，可以使用自動和手動模式。

　　10、高精密光學鍍膜機可配備Φ16CM離子源或低溫冷阱。